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EUV: La revolución silenciosa en DRAM (y II)

  • Productividad

Samsung EUV patron

Mientras que anteriormente la industria de la memoria se basaba en gran medida en mejoras iterativas, el avance habilitado por EUV cambiará las reglas del juego. EUV tiene un enorme potencial hoy y una gran cantidad de aplicaciones que transformará en el futuro, y Samsung quiere estar ahí.

Los chips fabricados mediante el proceso EUV son más compactos pero muy potentes, lo que significa un procesamiento y una productividad mejorados. También significa más versatilidad en aplicaciones como smartphones, dispositivos de IoT y servidores, donde la relación tamaño/potencia es importante, y donde la eficiencia también es primordial.

Otra ventaja adicional de esta tecnología es que, mientras que los procesos DUV suelen utilizar varias máscaras para crear una sola oblea porque la complejidad de los circuitos necesarios para los chips actuales es demasiado alta para utilizar una sola máscara, con EUV, los circuitos se pueden dibujar en formaciones más pequeñas y detalladas, lo que significa que se pueden utilizar patrones únicos sin fisuras. Cuantas más máscaras se utilicen, más pasos de proceso se requieren. Esto alarga el tiempo de producción y, por lo tanto, el tiempo de comercialización. En última instancia, el patrón único produce mejores rendimientos y ahorra tiempo y costes a los clientes.

Samsung mantiene la ventaja en los procedimientos EUV. Es uno de los primeros en la industria en aplicar con éxito el procesamiento EUV a la producción de DRAM gracias a su tecnología y experiencia en la fabricación de semiconductores. Samsung ya ha estado produciendo en masa productos EUV específicos y se está preparando para aumentar su capacidad de fabricación a mayor escala en un futuro próximo.

A principios de este año, Samsung anunció que había vendido un millón de módulos DRAM DDR4 (Double Date Rate 4) de 10nm (D1x) basados en la tecnología EUV, un hito que abre la puerta a usos más avanzados de EUV para crear soluciones para una serie de aplicaciones como PCs premium, dispositivos móviles, servidores empresariales y centros de datos.

La producción en masa comenzó a principios de este año en la nueva línea de fabricación de semiconductores de Samsung en Hwaseong, Corea, la primera línea de producción de Samsung dedicada a la tecnología EUV. Ahora, Samsung está ampliando aún más los límites de la tecnología, ya que acaba de lanzar la primera línea de producción a gran escala para chips DRAM móviles LPDDR5 de 16 Gb basados en tecnología de proceso de 10 nm. Samsung es el primero en la industria en aplicar EUV para este proceso.

Este es un viaje y el destino aún no está próximo. La compañía tiene una hoja de ruta mediante la cual se está preparando para implementar más soluciones DRAM basadas en EUV.

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La tecnología de almacenamiento permite a las empresas disponer de la capacidad necesaria para poder gestionar sus datos. Si quiere conocer más sobre la propuesta de Samsung Storage puede consultar este enlace.